乍一看光刻机和蚀刻机非常接近 , 但是光刻机和蚀刻机却不能混为一谈 , 因为蚀刻只是制造芯片其中之一的环节罢了 。而刻蚀机也只是诸多芯片制造设备其中之一 。下面我给大家聊一下蚀刻机 。
刻蚀机和光刻机的区别

文章插图
【光刻机和蚀刻机哪个重要 刻蚀机和光刻机的区别】工作原理不同
如果把制造芯片比喻成盖房子 , 那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上 。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备 , 也是光刻完成以后最为重要的设备之一 。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设 , 把不需要的地方给清除掉 , 只留下光刻过程中标注好的线路 。
结构不同
光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路 , 其光源和光路的主要组成部分有四个 , 光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成 。对比之下 , 蚀刻机的结构组成就要简单很多 , 主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成 。
售价不同
ASML的EUV光刻机单台售价高达1.2亿美元 , 而蚀刻机的售价就要低很多了 , 每台售价在几十万到几百万美元之间 。
蚀刻机的相关工作原理我之前有发文 , 有感兴趣的可以去我主页去找 , 这里我也不再过多叙述 。
国产蚀刻机就给我国半导体领域做了一个很好的榜样 , 我国中微半导体研发出国际主流的5nm蚀刻机并取得台积电的认证后 , 美国商务部就把蚀刻机从对华出口限制清单上移除了 。这充分说明了一件事情 , 只要自己有了核心技术 , 对手就没法再打压你 。
总体来说 , 我国在半导体领域还相对比较落后 , 还有较长的路要走 , 但是只要我们坚持走下去 , 就一定可以看见彩虹 。
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